混懸液中的微粒大小是不均勻的，大的微粒總是迅速沉降，細小微粒沉降速度很慢，細小微粒由于布朗運動，可長時間懸浮在介質中，使混懸液長時間地保持混懸狀態。制備混懸液時，應使混懸微粒有適當的分散度，粒度均勻，以減小微粒的沉降速度，使混懸液處于穩定狀態。傳統的混懸液生產都是采用普通膠體磨，轉速只有3000rpm，生產出來的懸浮液顆粒較粗，靜置一段時間容易產生絮凝，影響藥效和使用，為此有醫藥廠家在考察了國內的設備之后，放棄了具有度價格優勢的國內設備，來詢問低能耗、高轉速、精密定轉子、研磨細的上海IKN高速高剪切均質機。該設備轉速達到14000RPM，這可以通過變頻調速通過皮帶加速來實現。(轉速是普通均質研磨設備3-4倍，研磨的力度也是普通均質機的3-4倍，這樣研磨的細度更小，效果更好)混懸液膠體磨CMSD2000三錯齒結構的研磨轉子，配合精密的定子腔。目國內常用的剪切式均質機線速度多為10～25 m/ s。實踐證明其均質效果并不理想。IKN高剪切均質機指線速度達到40～66 m/ s的剪切式均質機,其主要工作部件為多相互嚙合的定轉子,每定轉子又有數層齒圈.

上海IKN技術，獨特創意，融化理念。將IKN高剪切膠體磨進行進一步的改良，在原來ER2000系列的基礎上，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩模塊，加入了一分散盤（均質盤、乳化盤）。從而形成改良型的膠體磨，先研磨后分散（均質、乳化），將物料的處理一步到底的完成，我們將這種改良的膠體磨也稱為“研磨分散機”、“研磨均質機”、“研磨乳化機”。表面拋光和結構材料，可以滿足不同行業的多種要求。

目市面上幾種研磨粉碎設備主要有：

砂磨機：鋯珠易損，引入雜質，更換維修成本高；

國內膠體磨/研磨機/分散機：轉速普遍2930rpm，不超過3000rpm，作用力弱，粉碎研磨細度不夠，漿料穩定性差；

德國IKN研磨均質機（改進型膠體磨/改進型均質機）：轉速范圍9000rpm-14000rpm-21000rpm，剪切力，研磨力，分散力更強，粒徑更小，分布范圍更窄，漿料穩定性更好。產生均勻的尺寸減小率并產生窄的，一致的和可重復的粒度分布。

上海依肯機械 楊工 1-8-2-0-1-8-9-1-1-8-3

高的轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是重要的。根據一些行業特殊要求，依肯公司在ER2000系列的基礎上又開發出ERS2000超高速剪切均質乳化機。其剪切速率可以超過10000 rpm，轉子的速度可以da到40m/s。在該速度范圍內，由剪切力所造成的湍流結合研制的電機可以使粒徑范圍小到納米。剪切力更強，乳液的粒經分布更窄。由于能量密度高,無需其他輔助分散設備。
 

1 表中上限處理量是指介質為“水”的測定數據。

2 處理量取決于物料的粘度，稠度和#終產品的要求

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